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產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱/型號 產(chǎn)品簡介 射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號：ZH5493 主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。 ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠地控制參數(shù)和提高膜層附著力、密度及均勻性，已成為沉積薄膜的重要方法，射頻磁控濺射具有沉積速率高，可以濺射材料，包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點(diǎn)。由于在低氣壓下濺射，因此膜層致密、針孔少、度高。 可開設(shè)的實(shí)驗(yàn) 共 2 條記錄，當(dāng)前 1 / 1 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉(zhuǎn)到第頁

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