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產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱/型號 產(chǎn)品簡介 射頻ICP薄膜沉積裝置型號：ZH5495 本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)等部分組成。 ZH5495型射頻ICP薄膜沉積裝置 本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)等部分組成。 通過本實驗裝置可以掌握CVD（化學氣相沉積）；理解CVD的成膜過程及要求，化學輸運反應的原理，等離子體CVD的原理、特點及等離子體的激勵方式；了解該在電學、光學、微電子學等領(lǐng)域的廣闊應用前景。 可開設(shè)的實驗 YQ-DHIP-1射頻ICP薄膜沉積裝置 本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)等部分組成。 通過本實驗裝置可以掌握CVD（化學氣相沉積）；理解CVD的成膜過程及要求，化學輸運反應的原理，等離子體CVD的原理、特點及等離子體的激勵方式；了解該在電學、光學、微電子學等領(lǐng)域的廣闊應用前景。 可開設(shè)的實驗 共 3 條記錄，當前 1 / 1 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉(zhuǎn)到第頁

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