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產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱/型號(hào) 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 ZH7757模擬靜電場(chǎng)描繪儀 型號(hào)：ZH7757 靜電場(chǎng)的電場(chǎng)強(qiáng)度和電位是描述靜電場(chǎng)的兩個(gè)基本量，這兩個(gè)量的直接測(cè)量是很困難的。先，難于保持場(chǎng)源電荷電量的持久不變，這是因?yàn)殡姾煽傄ㄟ^大氣或支持物不斷地泄漏；其次，在測(cè)量時(shí)將探針引入靜電場(chǎng)的同時(shí)，在探針上會(huì)感應(yīng)電荷，這些電荷產(chǎn)生的靜電場(chǎng)迭加在原電場(chǎng)，使電場(chǎng)發(fā)生顯著畸變，測(cè)量亦失去了意義。 模擬靜電場(chǎng)描繪儀 型號(hào)：ZH6622 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目：模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.單層坐標(biāo)結(jié)構(gòu) 3.自來水介質(zhì) 模擬靜電場(chǎng)描繪儀 型號(hào)：ZH6623 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目：模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.單層坐標(biāo)結(jié)構(gòu) 3.自來水介質(zhì) 模擬靜電場(chǎng)描繪儀 型號(hào)：ZH6624 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目:模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.雙層結(jié)構(gòu),激光描點(diǎn)() 3.導(dǎo)電介質(zhì):導(dǎo)電微晶 ZH7757模擬靜電場(chǎng)描繪儀 靜電場(chǎng)的電場(chǎng)強(qiáng)度和電位是描述靜電場(chǎng)的兩個(gè)基本量，這兩個(gè)量的直接測(cè)量是很困難的。先，難于保持場(chǎng)源電荷電量的持久不變，這是因?yàn)殡姾煽傄ㄟ^大氣或支持物不斷地泄漏；其次，在測(cè)量時(shí)將探針引入靜電場(chǎng)的同時(shí)，在探針上會(huì)感應(yīng)電荷，這些電荷產(chǎn)生的靜電場(chǎng)迭加在原電場(chǎng)，使電場(chǎng)發(fā)生顯著畸變，測(cè)量亦失去了意義。 BT-U201模擬靜電場(chǎng)描繪儀 靜電場(chǎng)的電場(chǎng)強(qiáng)度和電位是描述靜電場(chǎng)的兩個(gè)基本量，這兩個(gè)量的直接測(cè)量是很困難的。先，難于保持場(chǎng)源電荷電量的持久不變，這是因?yàn)殡姾煽傄ㄟ^大氣或支持物不斷地泄漏；其次，在測(cè)量時(shí)將探針引入靜電場(chǎng)的同時(shí)，在探針上會(huì)感應(yīng)電荷，這些電荷產(chǎn)生的靜電場(chǎng)迭加在原電場(chǎng)，使電場(chǎng)發(fā)生顯著畸變，測(cè)量亦失去了意義。 ZH6622模擬靜電場(chǎng)描繪儀 型號(hào)：ZH6622 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目：模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.單層坐標(biāo)結(jié)構(gòu) 3.自來水介質(zhì) ZH6623模擬靜電場(chǎng)描繪儀 型號(hào)：ZH6623 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目：模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.單層坐標(biāo)結(jié)構(gòu) 3.自來水介質(zhì) ZH6624模擬靜電場(chǎng)描繪儀 型號(hào)：ZH6624 4.電基材:高分子材料板(克服玻璃易破缺陷) 5.三組電:同軸圓柱面、平行板、長(zhǎng)平行導(dǎo)線 6.電壓測(cè)量:0--19.99V，三位半數(shù)顯 7.含電源 UKMJ-Ⅱ模擬靜電場(chǎng)描繪儀 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目：模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.單層坐標(biāo)結(jié)構(gòu) 3.自來水介質(zhì) UKMJ-ⅡA模擬靜電場(chǎng)描繪儀 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目：模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.單層坐標(biāo)結(jié)構(gòu) 3.自來水介質(zhì) UKMJ-III模擬靜電場(chǎng)描繪儀 1.實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目:模擬法測(cè)繪靜電場(chǎng) 2.雙層結(jié)構(gòu),激光描點(diǎn)() 3.導(dǎo)電介質(zhì):導(dǎo)電微晶 共 12 條記錄，當(dāng)前 1 / 1 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉(zhuǎn)到第頁

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