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產(chǎn)品型號(hào)： |
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產(chǎn)品名稱： |
ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 |
產(chǎn)品報(bào)價(jià)： |
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產(chǎn)品特點(diǎn)： |
主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠地控制參數(shù)和提高膜層附著力、密度及均勻性，已成為沉積薄膜的重要方法，射頻磁控濺射具有沉積速率高，可以濺射材料，包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點(diǎn)。由于在低氣壓下濺射，因此膜層致密、針孔少、度高。可開(kāi)設(shè)的實(shí)驗(yàn) |
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ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 的詳細(xì)資料： |
| ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 | | 產(chǎn)品簡(jiǎn)介
主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠地控制參數(shù)和提高膜層附著力、密度及均勻性，已成為沉積薄膜的重要方法，射頻磁控濺射具有沉積速率高，可以濺射材料，包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點(diǎn)。由于在低氣壓下濺射，因此膜層致密、針孔少、度高。
可開(kāi)設(shè)的實(shí)驗(yàn)
1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理；
2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過(guò)程及使用范圍；
3、磁控濺射法制備金屬膜、半導(dǎo)體膜、化合物膜、介質(zhì)膜等薄膜。
主要參數(shù)
1、濺射鍍膜室：由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成；尺寸：Φ220×H230mm3；
2、濺射鍍膜室本底真空：≤1Pa；濺射腔限真空：6×10-1Pa；
3、濺射靶：Φ50mm，濺射靶臺(tái)和濺射靶可調(diào)距離：20～60mm；
4、基片加熱溫度可控范圍：室溫～300℃；
5、射頻源功率：500W，13.56MHz；
6、氣路系統(tǒng)：由兩路轉(zhuǎn)子流量計(jì)控制（可選配流量計(jì)）；
7、真空系統(tǒng)：2XZ-4型旋片真空泵，抽氣速率：4L/S，單相220V交流電源供電；
8、對(duì)過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；
9、供電電源：AC220V，50Hz，整機(jī)功率2KW。
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| 北京中慧天誠(chéng)有限公司
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| 產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： ZH5493型射頻磁控濺射鍍膜裝置 北京中慧天誠(chéng)有限公司 |
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